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铜镍钛(CuNiTi)合金靶材 ¥700.00


高纯3N5(99.95%) 铜镍钛合金靶材,价格以当日报价为准,需联系销售报价!!!


元素 : CuNiTi     

纯度 : 3N5      4N     

形状 : 平面靶材     

规格 : 1Kg     

包装 : 三层真空包装或充氩气保护,符合IATA、DOT包装规范     

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商品详情


市场参考价格:¥1500.00/Kg左右, 价格仅供参考,如有需要,请咨询报价,以当日报价为准!

产品名称:铜镍钛合金(CuNiTi)靶材

纯度:3N5

规格: 376.3x120x10mm 或者根据图纸定制


铜镍钛合金靶材呈淡黄色,是一种用于磁控溅射等科研实验中的重要材料。这种靶材具有独特的性能特点,适用于多种应用领域。



铜镍钛合金靶材


铜镍钛合金靶材应用
    • 半导体制造:在半导体芯片的制造过程中,铜镍钛合金靶材可用于物理气相沉积(PVD)来形成导电层和阻挡层等薄膜结构。比如在集成电路中,利用其高导电性和良好的热稳定性,实现芯片内的高效互连,降低电阻,提高电流承载能力,提升芯片的性能和可靠性。
    • 平板显示器制造:在平板显示器(如 TFT-LCD、OLED 等)的生产中,用于形成导电通道和透明导电层。铜镍钛合金具备的特性使其能够满足平板显示器对于导电性能和光学性能的要求,有助于提高显示效率和色彩准确性。例如在 TFT-LCD 中,可作为电极材料形成导电线路;在 OLED 中,也可在特定结构中发挥导电作用。
  • 光学镀膜:通过物理气相沉积技术,将铜镍钛合金靶材溅射到光学器件表面,形成具有特定光学性能的薄膜。如在反射镜的制造中,能提供高质量的反射膜,提升反射率;在滤光片的制作中,利用其独特的光学吸收特性,有效调节光的波长,增强滤光效果。并且在镀膜过程中,精确控制溅射参数,可实现对薄膜均匀性和厚度的良好把控,后续还可能通过热处理等方式进一步优化薄膜的结构和光学性能。