铜酸镧靶材是由高纯度的氧化镧和氧化铜通过粉末冶金等特殊工艺制成的固态坯料。具有纯度高,导电性好,致密度高等特性,广泛用于光学信息存储、玻璃涂层(如汽车玻璃、建筑玻璃)、光通信等行业。
2025-09-29
铜锰镍合金靶材是一种以铜为基体、添加镍和锰元素的高纯度合金溅射靶材,具有优异热机械性能、耐腐蚀性、附着性和可加工性。通过熔炼法制备而成,广泛应用于半导体、集成电路、薄膜电阻、平面显示、光学器件和太阳能电池等领域。
2025-09-19
铜硅合金靶材是一种用于物理气相沉积(PVD)工艺的重要溅射靶材,主要由铜(Cu)和硅(Si)两种元素组成。它在微电子、半导体和光伏等领域有着特定的关键应用。
2025-09-12
铝镝合金靶材由金属铝(Al)和稀土元素镝(Dy)通过特定冶金工艺制备而成。具有优良的导电性、延展性和镝独特的磁性能及高温稳定性。主要用于半导体、数据存储和光学镀膜等高科技领域。
2025-09-05