高纯铜靶材4N-6N（99.9999%）铜材料源头厂家，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： Cu
纯度 ： 4N-6N
形状 ： 平面靶材
规格 ： 100g
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥150.00/片左右， 价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！支持定制
名称：铜靶材（ Copper Sputtering Target）
纯度：4N-6N
规格： D50.8x3mm， D70.8x3mm 或者定制
铜靶材是薄膜沉积技术中被离子或电子束轰击以沉积薄膜的固体材料，纯度达到99.99%-99.99999%国际水平。 密度为8.92g/cm³，色泽呈紫红色，熔点约为1083.4℃，沸点约为2567℃。铜靶材具有优异的电导率，这使得铜靶材在高能效电子设备制造中不可或缺，能够有效提升电子元器件的性能，同时降低功耗和提高可靠性。
铜靶材金相图
应用领域
铜是与人类关系非常密切的有色金属，被广泛地应用于电气、轻工、机械制造、建筑工业、国防工业等领域，在中国有色金属材料的消费中仅次于铝。
铜在电气、电子工业中应用广、用量大，占总消费量一半以上。用于各种电缆和导线，电机和变压器，开关以及印刷线路板的制造中。在机械和运输车辆制造中，用于制造工业阀门和配件、仪表、滑动轴承、模具、热交换器和泵等。
在化学工业中广泛应用于制造真空器、蒸馏锅、酿造锅等。
在国防工业中用以制造子弹、炮弹、枪炮零件等。在建筑工业中，用做各种管道、管道配件、装饰器件等。
