高纯3N（99.9%）钒靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： V
纯度 ： 3N
形状 ： 靶材
规格 ： 1Kg
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥300.00/Kg左右， 价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称：钒（V）靶材
纯度：3N,3N5
规格：D25.4 x 6.35mm，D50.8x3mm ，D75x100mm 或者规格生产
高纯钒靶材银色金属靶材，其熔点为1890°C，密度为6.11g/cm 3 ，沸点 3380℃。涂层具有耐盐酸和硫酸的本领，并且在耐气、耐盐、耐水腐蚀的性能要比大多数不锈钢好。钒靶材主要用于磁控溅射工艺中，作为薄膜沉积的材料来源。
钒靶材的制备工艺
切割处理：将所需纯度钒铸锭依据目标尺寸，采用卧式锯床进行切割处理。
锻造：在450-500℃下预热后进行锻造，并控制锻造的总变形率为70-80%。
退火处理：将锻造得到的钒铸锭进行退火处理，退火的温度为400-500℃，保温时间为60-120分钟，然后采用空冷进行冷却。
轧制：将退火得到的钒铸锭进行轧制，并控制每道次的下压量0.5-1mm，控制总变形量为70-80%，直至得到所需直径和厚度的钒靶坯。
再次退火：将轧制得到的钒靶坯进行再次退火处理，再次退火的温度为450-550℃，保温时间为90-150分钟，再次退火之后进行水冷，得到所需高纯钒靶坯。
钒靶才应用领域
太阳能：钒靶材用于太阳能领域的集成电路、背板金属化等应用。
平板显示器：用于平板显示器领域的光电子应用。
电子及半导体：钒靶材在电子及半导体领域中也有广泛应用，如集成电路、光电子等。
储氢合金与氢气分离膜：高纯钒薄膜具有储氢、高温超导、快中子吸收截面小以及对液态钠有耐腐蚀性等特性，常应用于储氢合金与氢气分离膜。
高温超导材料：钒靶材也用于高温超导材料及高速增值反应堆燃料棒的保护材料和释热元件。
