高纯4N（99.99%）钽靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： Ta
纯度 ： 3N5 4N
形状 ： 平面靶材 旋转靶材
规格 ： 1Kg
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格:¥200.00/Kg左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准!
纯度:3N5.4N
规格:D32x1.75mm，D76.2x3.175mm 或者定制
性能:高导电性、高热稳定性
高纯钽靶材 是一种深（蓝灰色）金属，具有高密度、良好的延展性和高导热性和导电性。其熔点为3017°C，密度为16.6g/cm 3 。 钽溅射靶材应用于微电子领域，如热喷墨打印头、镀铜和硅通孔技术。由于高温油墨会在某些喷墨印刷机中引起空化，因此钽溅射靶可以作为抗空化膜来保护油墨设施。一些钽溅射靶材也应用于玻璃镀膜。 如需更多详情，欢迎电话咨询获得更多优惠!
高纯钽靶材规格
尺寸：1.00" 直径 x 0.125" 厚，3.0" 直径 x 0.250" 厚，4.0" 直径 x 0.125" 厚，可按要求定制。
形状：平面靶 旋转靶 异型定制
备料 - 烧结 - 真空电子束熔炼 - 塑性变形 - 退火 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装
钽靶材及其制备方法
制造方法基本是高纯钽粉先烧结成块，再通过高真空电子束熔炼炉获得高纯钽锭，然后对钽锭反复进行塑性变形和退火，从而获得具有均勻晶粒和一定内部织构的钽靶坯，靶坯通过与背板进行焊接并经机械加工，终成品。在这样的制造方法中，高纯钽粉需要先烧结成块，然后再经高真空电子束熔炼成锭，再经过反复的塑性变形和退火才能终获得可用于半导体用溅射靶材生产制造用的靶坯。
高纯钽靶材应用
广泛用于磁控溅射镀膜，永磁材料、软磁材料、功能材料薄膜等。高性能钽溅射材料与其他光信息存储空间行业、汽车玻璃和建筑玻璃等玻璃镀膜行业、光通信等一样，用于薄膜镀膜应用、CD-ROM、装饰、平板显示器、功能镀膜。
电容器
每年消耗的钽约有一半用于电子行业，主要用作电容器的粉末和线材。钽电容器在电信、数据存储和可植入医疗设备等空间敏感的高端应用中受到青睐。
半导体
使用物理气相沉积 (PVD) 工艺，钽溅射靶材被“溅射”到半导体基板上，形成薄膜扩散屏障，以保护铜互连。钽溅射靶材用于各种其他产品，包括磁存储介质、喷墨打印机头和平板显示器。
发动机涡轮叶片
该金属的高熔点和耐腐蚀性使其适用于合金化应用。钽用于镍基高温合金，其中主要应用是飞机发动机的涡轮叶片和陆基燃气轮机。
化学加工设备
钽的高耐腐蚀性和耐高温性使该金属成为化学和制药行业中容器、管道、阀门和换热器内衬的理想结构材料。
