高纯3N5（99.95%）钨靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： W
纯度 ： 3N5
形状 ： 平面靶材
规格 ： 个
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥1100.00/片左右， 价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
高纯钨靶材是以纯钨粉为原材料烧结锻打而成，其熔点为3410°C，密度为19.3g/cm 3 。钨溅射靶偏转力度高，热化学稳定性良好，电阻低，此外，它还有高熔点、高弹性、低膨胀系数、低蒸气压、无毒、无放射性等优异的物理性质和化学性质 。 如需更多详情，欢迎电话咨询获得更多优惠!
高纯钨靶材规格
尺寸：1.00" 直径 x 0.125" 厚，3.0" 直径 x 0.250" 厚，4.0" 直径 x 0.125" 厚，可按要求定制。
形状：平面靶 异型定制
钨溅射靶材生产工艺
1、将钨粉放在真空热处理炉中进行预脱气，后导入氢气，继续加热进行脱气；
2、将脱气后的钨粉通过真空热压完成一次烧结；
3、将一次烧结后的产品通过热等静压机完成二次烧结；
4、将二次烧结后的产品通过机械加工将整个表面进行磨削处理，即可得到产品。
高性能钨溅射材料 可用于薄膜镀膜应用、CD-ROM、装饰、平板显示器、功能镀膜以及其他光信息存储空间行业、汽车玻璃和建筑玻璃等玻璃镀膜行业、光通信等。
