高纯5N（99.999%）铜靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： Cu
纯度 ： 4N 5N
形状 ： 平面靶材 旋转靶材
规格 ： 1Kg
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥650.00/Kg左右， 价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
高纯铜靶材呈红橙色，熔点为 1,083°C，密度为 8.92 g/cc，在 1,017°C 时的蒸气压为 10 -4 Torr，真空镀膜行业的优良溅射材料。 钽溅射靶材应用于微电子领域，如热喷墨打印头、镀铜和硅通孔技术。由于高温油墨会在某些喷墨印刷机中引起空化，因此钽溅射靶可以作为抗空化膜来保护油墨设施。一些钽溅射靶材也应用于玻璃镀膜。 如需更多详情，欢迎电话咨询获得更多优惠!
高纯铜靶材规格
尺寸：
D76.2x3.175mm ，可按要求定制。
形状：平面靶 旋转靶 异型定制
备料 - 熔化和铸造（电阻炉 - 半连续铸造 (VIM&EB)）- 晶粒细化（热机械处理（锻造、轧制、退火）） - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装
铜靶材制备方法
将金属铜转化为铜溅射靶的第一步是熔炼，通过多次电解和区域熔炼法将铜从99.95%提纯到99.99% 和 99.999%。接下来的一系列步骤包括锻造、轧制和热处理原材料中的高纯铜锭。目的是使铜锭中的晶粒更小，密度更高，以满足溅射所需的铜靶要求。经变形处理后，加工出高纯度铜溅射材料，以达到高精度和高表面质量，并适合真空镀膜机的尺寸。
高纯铜靶材应用
主要用于电子信息行业，如集成电路、信息存储、液晶显示器、激光存储器、电子控制器件等；可应用于玻璃镀膜领域；还可应用于耐磨材料、耐高温腐蚀、高档装饰用品等行业。
信息存储行业：随着信息和计算机技术的不断发展，世界市场对记录介质的需求越来越大，相应的记录介质目标介质也在不断扩大。相关产品包括硬盘、磁头和光盘。（CD-ROM、CD-R、DVD-R等）、磁光相变光盘（MO、CD-RW、DVD-RAM）。
集成电路行业：在半导体应用领域，溅射靶材是世界靶材市场的主要组成部分之一。主要用于电极互连膜、阻挡膜、接触膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻膜等。
平板显示器行业：平板显示器包括液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）等。目前，LCD是平板显示市场的主要市场，其市场份额超过85%。LCD被认为是有前途的平板显示设备，广泛应用于笔记本显示器、台式显示器和高清电视。LCD的制造工艺复杂，反射层、透明电极、发射极和阴极均采用溅射法形成，因此溅射靶材在LCD的制造中占有重要地位。
