2024-11-09 16:54:43 243人浏览
溅射靶材在物理气相沉积（PVD）过程中，被用作溅射源的材料。这种技术广泛应用于半导体、光学、光伏和表面处理等领域，是现代材料科学和微电子工业的基石之一。本文将介绍以下十大耐高温溅射靶材。
2024-11-01 16:54:24 231人浏览
三氧化二铁靶材是一种黑色固体靶材，熔点为1870°C，沸点为3660°C。其制备方法采用高温烧结法制备。广泛应用于电子、磁记录、催化剂、传感器等领域。
2024-10-23 16:44:42 152人浏览
铁钴硼靶材由铁、钴和硼三种元素组成。这种合金靶材结合了铁和钴的优良磁学性能以及硼的特殊化学性质。通常采用粉末冶金法制备，广泛用于磁记录、磁性传感器、磁疗设备等领域。
2024-10-18 16:59:14 242人浏览
铁钴钽合金靶材主要由铁、钴和钽三种元素组成。该靶材具有高效、耐用、可靠的特点，其制备方法通常包括粉末冶金法、真空熔炼法等。适用于在高技术领域中使用，如磁记录、磁头材料等。
2024-10-11 17:22:49 343人浏览
硫化铁靶材是一种由铁和硫组成的硫化物陶瓷材料，被用作溅射源的材料。硫化铁靶材通过利用高能离子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出并沉积到基板上。这种技术广泛应用于半导体、光学、光伏和表面处理等领域。
2024-09-29 15:13:09 405人浏览
铁镍合金靶材主要由镍和铁两种金属元素组成，具备良好的导电性和导热性。通过热锻、冷轧、热处理等工艺制备。在电子、半导体、磁性材料等领域有着广泛的应用。
2024-09-26 15:47:20 197人浏览
铁铪合金靶材是由铁和铪两种元素组成的合金靶材，具有高强度、高温稳定性、耐腐蚀性能等优良特性。主要应用于磁性薄膜材料中，以改善稀土永磁薄膜材料的高温性能。
2024-09-21 09:51:34 216人浏览
铁铬合金靶材是由高纯铁粉和铬粉通过粉末冶金法制备，是一种重要的合金靶材。其膜层具有很好导电性、抗氧化性和耐腐蚀性，广泛用于电子，光学和各种材料表面涂层。
2024-09-13 11:14:33 369人浏览
铁硅合金靶材是一种由铁和硅两种元素组成的用于制备薄膜的重要原材料。制备方法主要有铸造法和粉末冶金法。广泛用是在半导体、太阳能电池、光学薄膜和数据存储设备等方面。
