镁溅射靶材制备工艺及应用介绍
发布时间：2022-12-26 作者：材料类科研服务平台 阅读量：308
镁溅射靶材具有与金属镁相同的性能，它的密度为 1.738 g/cm3，熔点为650℃，沸点为1091℃，是一种银白色的轻质碱土金属。金属镁具有一定的延展性和热消散性；具有比较强的还原性，常用做还原剂，去置换钛、锆、铀、铍等金属；还可用于制造轻金属合金、球墨铸铁、科学仪器和格氏试剂等；也能用于制烟火、闪光粉、镁盐、吸气器、照明弹等。镁溅射靶材可用以真空镀膜，实验或研究级别用镁靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等。
镁溅射靶材特征
镁靶材形状：平面靶 异型定制
镁靶材纯度：3N5, 4N
镁靶材尺寸：按图纸加工或其他者定制
我们还可以提供镁丝、镁棒、镁粒、镁块等
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