钼溅射靶材制备方法及应用介绍
发布时间：2023-03-20 作者：材料类科研服务平台 阅读量：224
钼溅射靶材与其原材料具有相同的属性。钼是一种银灰色金属，它的熔点为2623°C，密度为10.2g/cm3。 真空环境或惰性气体保护环境，纯钼较高耐高温1200度，钼合金较高耐高温1700度。钼的弱氧化从 300 °C (572 °F) 开始，它是商用金属中热膨胀系数低的金属之一。鑫康生产的钼靶材是具有高密度和小平均晶粒尺寸的高纯度溅射靶材，用于PVD，CVD，APS和VPS镀膜工艺。
钼溅射靶材特征
钼溅射靶材形状：平面靶 旋转靶 异型定制
钼溅射靶材纯度：3N5
钼溅射靶材尺寸：按图纸加工或其他者定制
我们还可以提供钼丝、钼片、钼棒、钼粒、钼块、钼粉等
除钼靶材外，我们还可以提供钼钛合金、钼铼合金、钼铌合金、钼铜合金、钼镧合金、钼钽合金等溅射靶材。
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