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溅射用钴靶材 制备工艺及应用

发布时间:2023-06-16 作者:材料类科研服务平台 阅读量:257

钴靶材


钴靶材具有与金属钴相同的性质,钴是具有光泽的银白色铁磁性金属,表面呈银白略带淡粉色,它的密度为8.91 g/cc,熔点1493℃、蒸气压为237帕(1726K),比重8.9,比较硬而脆,钴是永磁性的,在硬度、抗拉强度、机械加工性能、热力学性质、电化学行为方面与铁和镍相类似,加热到1150℃时磁性消失。我们生产的钴靶材纯度高、密度大、硬度高、腐蚀性强。钴靶材广泛应用于医疗、工业和科学等领域,是X射线技术的重要组成部分。


钴靶材特征
钴靶材形状:平面靶 旋转靶 异型定制
钴靶材纯度:3N5
钴靶材尺寸:按图纸加工或者定制
我们还可以提供钴丝、钴片、钴棒、钴粒、钴块、钴粉等

钴靶材金相图

钴靶材的制作方法
采用的高纯钴锭,纯度为3N5以上;
对高纯钴锭进行多次锻造,锻造之前需要对钴锭进行预热处理,预热处理的温度为700°C - 900°C,每次锻造的变形率为50%-70%;
对多次锻造后的钴锭进行退火处理,退火处理的方式为,缓慢升温到500°C 700°C,保温 2 3小时,然后自然冷却;
经过退火处理后的钴锭进行多次压延(每次压延的变形率为10%-20%,总的压延的变形率为70%-90%;),形成钴靶坯;
对多次压延形成后的钴靶坯进行终再结晶退火处理,退火处理的温度为450°C- 600°C,温度公差只允许为±3°C,保温时间为1 - 2小时,保温结束后30s 之内迅速进行水冷处理。
对进行了终再结晶退火处理后的钴靶坯进行机械加工,形成靶材。
该钴靶材的 制备方法能够满足半导体溅射所要求的晶粒尺寸要求和晶粒取向要求。  上图是钴靶材典型的显微金相检测图片,平均粒径<100um。

钴靶材应用
它的两个主要真空应用是在磁存储介质的生产中用作铁磁层,以及在电池制造中用作过渡层。

金属钴其他用途
金属钴可以用来制备各种合金。许多需要耐热防腐性质的材料都需要他的参与,像燃气轮机的叶片,喷气发动机,火箭发动机等等,都需要这种金属。钴除了制备高温合金和防腐合金以外,还用于制造有色玻璃颜料,催化剂等等。因为他的状态比较稳定,制造出来的各种颜料也比较稳定,在空气中能够保存很长的时间。而且钴的化合物会有各种颜色,这些化合物也是继承了钴的稳定性,不管是作为颜料还是玻璃材料都非常好。

钴靶材合金类型
铝钴合金,钴镍合金,钴铁合金,铬钴合金,钴酸锂,钴基掺杂钽等溅射靶材

感谢您阅读溅射用钴靶材 制备工艺及应用。希望大家能对钴靶材有更好的了解。 如果您想了解更多关于金属科研材料的信息,请收藏我们的网站鑫康新材料https://www.xk-materials.cn/


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