溅射用的硅靶材是什么材料以及它的生产工艺介绍
发布时间：2023-07-14 作者：材料类科研服务平台 阅读量：302
2、晶体生长
硅锭是硅靶材的原料，需要进行晶体生长。硅锭通常采用Czochralski生长法，即将硅放入高温熔融的硅熔体中，然后通过旋转和拉伸的方式使其逐渐生长成长方体晶体。这个过程中需要严格控制温度、拉伸速度和气氛等因素，以确保晶体的质量和纯度；
3、切割
晶体生长后，需要将其切割成适当尺寸的硅片，以便后续加工。硅片的切割通常采用钻石线锯或电解切割机。钻石线锯是一种高效的切割方法，但会产生较多的切割屑，需要进行清理和处理。电解切割机则可以实现高精度的切割，但会对晶体表面造成一定的损伤；
4、抛光
切割后的硅片需要进行抛光处理，以获得光滑、平整的表面。硅片的抛光通常采用化学机械抛光法，即在抛光液中加入一定的氧化剂酸性物质和磨料，通过化学和机械作用使晶体表面得到抛光和平整。硅靶材的生产工艺需要高度精密的控制和操作，以确保硅片的质量和纯度。未来随着半导体工艺的不断发展和进步，硅靶材生产工艺也将不断优化和改进，以满足更高的工艺要求和市场需求。上图是锗靶材的材质分析报告。
硅靶材应用
1. 半导体制造：硅靶材是制造半导体器件的重要原材料，用于制造晶片、太阳能电池等。
2. 光学薄膜：硅靶材可以用来制备高透明度的光学薄膜，如透明电极、IR透镜、偏振器等。
3. 硅化物陶瓷：硅靶材可以用来制备高性能的硅化物陶瓷材料，如氮化硅、碳化硅等，用于制造高温结构材料和切削工具等。
4. 防反射涂层：硅靶材可以用来制备防反射涂层，主要应用于太阳能电池板、平板显示屏等。
5. 纳米技术研究：硅靶材可以用于制备各种纳米结构材料和器件，如纳米管、纳米线、量子点等。
金属硅其他用途
金属硅用途广泛，主要用于冶金脱氧、铝合金、以及制作多晶硅、单晶硅。还用来制作高纯半导体、耐高温材料、光导纤维通信材料、有机硅化合物，被广泛应用于航空航天、电子电器、建筑、运输、能源、化工、纺织、食品、轻工、医疗、农业行业等等。
硅靶材系列产品
铝硅合金、铬硅合金、铜硅合金、硅钛合金、硅锰合金、锆硅合金、碳化硅、二氧化硅、一氧化硅、氮化硅等溅射靶材。
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