钌金属溅射靶材制备工艺以及用途
发布时间：2023-10-14 作者：材料类科研服务平台 阅读量：568
钌靶材是指由钌（Ru）制成的用于靶材应用的材料。靶材颜色呈灰色，熔点2334°C，密度12.37g/cm³，热膨胀 6.4 μm /（m·K）。钌靶材具有良好的耐热性、耐腐蚀性和机械强度，适合在高温、高压和腐蚀环境下使用。
钌靶材特征
钌靶材形状：平面靶、异型定制
钌靶材纯度：3N5
钌靶材尺寸：按图纸加工或其他者定制
我们还可以提供金属钌锭、钌颗粒、钌粉等
钌靶材制备工艺
将钌粉装入石墨模具，振实压紧。将装填好粉料的石墨模具放入真空热压炉中进行单向热压烧结，烧结过程在保护气体氛围下进行，烧结温度为1600-1800℃，烧结压力为5-20mp；在室温至1000℃，升温速率为5-10℃/min；在1000℃至1500℃，升温速率为5~8℃/min；在1500℃至烧结温度，升温速率为升温速度为2-5℃/min；在烧结温度保温30-120min，烧结完成后冷却、脱模，得到坯块；
将得到的坯块进行表面打磨抛光，依据磁控溅射设备进行尺寸加工，得到高纯钌溅射靶材。
此制备工艺相对简单，工艺参数可控性强，设备和能源成本较低，易实现大规模产业化；制备成本较低，制备工艺温度大大降低，能够大大降低制备过程中混入杂质的可能性，纯度更容易保证；靶材后期加工和变形工艺较少，产品微观组织稳定，有利于其溅射性能的稳定；采用的粉末冶金工艺，可通过调整原料粉体粒度、控制烧结工艺制度、调控加工工艺等方法来实现钌靶材组织精细度的调控，靶材性能的可控性更强。上图是钌靶材的材质分析报告。
钌靶材用途
电子器件应用：钌靶材可以用于电子器件的薄膜沉积。钌薄膜具有优异的导电性和耐腐蚀性，适用于高温、高压和腐蚀环境下的电子器件制造。
光学应用：钌靶材可以用于制备光学薄膜和光学镀膜。钌薄膜具有良好的反射和抗腐蚀性能，在激光器、光学仪器等领域有应用需求。
钌金属银其他应用
催化剂：钌是许多化学反应中常用的催化剂。它可以用于制造药物、塑料和化学品等。
电池材料：钌可以用于制造高性能的电池材料，如钌氧化物电池、钌锌电池和钌锂电池等。
电解质：钌可以用作电解质，例如用于固体氧化物燃料电池中的钌钡钛矿。
金属合金：钌可以与其他金属合金化，增加合金的硬度和耐腐蚀性。例如，钌与钛合金化可以制造高强度、耐高温的航空发动机零件。
高温材料：钌具有高熔点和耐高温性能，因此可以用于制造高温炉、航空发动机和火箭喷嘴等。
钌靶材系列产品
除钌靶材外，我们还可以提供钌钛合金、钌钯合金、钌铂合金等溅射靶材。
感谢您阅读钌金属溅射靶材制备工艺以及用途，希望大家能对钌靶材有更好的了解。如果您想了解更多关于金属科研材料的信息，请收藏我们的网站鑫康新材料科研服务厂家https://www.xk-materials.cn/。
[免责声明]本站文章部分为原创，其余仅做网络公开资料的翻译、归纳和整理，不属于商业用途，仅用于读者信息分享，供读者学习参考，不对文章内容的真实性、合法性、准确性、有效性、完整性等提供保证及负责，且不对读者提供任何投资及应用建议。本站尊重知识产权，因整理资料所需，文中引用部分有来源于第三方公开的数据、图片等内容的，如有版权的则其所属的知识产权归属原作者，本站文章凡有引用的内容均在文末标注了原文出处或者原作者，若版权所有者认为文章涉嫌侵权或其他问题，请联系我方（联系电话：0731-86393472）及时处理。本站提供技术方面的文章不用于商业仅供大家学习参考，力求数据严谨准确，但因受时间及人力限制，文章内容难免有所纰漏，如有重大失误失实，敬请不吝赐教批评指正。本站原创文章版权归本网站所有，转载请联系本站，本站拥有对此声明的终解释权。
