铱靶材杂质含量及用途介绍
发布时间：2023-10-20 作者：材料类科研服务平台 阅读量：303
铱溅射靶材具有与金属铱相同的性能。铱是一种稀有、坚硬、有光泽、易碎、非常致密的类铂金属。铱溅射靶材溅射的薄膜可用作功能性涂层和装饰涂层，并可镀在工具和珠宝的表面上，以提高其颜色、光泽、耐腐蚀性和耐腐蚀性。
铱靶材特征
铱靶材形状：平面靶、异型定制
铱靶材纯度：3N5
铱靶材尺寸：按图纸加工或其他者定制
我们还可以提供金属铱颗粒、铱丝、铱粉等
铱靶材成分分析表
铱靶材制备工艺
原料准备：选择4n及以上纯度的铱粉，粉末粒度为1～10μm；
冷压成型：将粉末放入模具中进行冷压成型，冷压压力为100～300mpa，保压时间为10～60min；
低温微波烧结：将冷压成型的锭坯进行微波烧结，首先抽真空至1x10-2Pa～1X10-3pa，再通入高纯氢气至1～10pa,随后升温至烧结温度400～800℃进行烧结，其中微波频率为2.45ghz，升温速率为10～50℃/min，烧结时间为10～30min，烧结时间到达后，锭坯随炉冷却，降温至室温后，关闭氢气，取出锭坯；
低温真空热压：将微波烧结后的锭坯进行真空热压烧结处理，烧结温度为400～900℃，升温速率为10～30℃/min，热压压力为100～300mpa，烧结时间为30～60min，真空度为1x10-3Pa～1X10-4pa，烧结时间到达后，按10～30mpa/min的降压速率降压，锭坯随炉冷却，降温至室温后，取出锭坯；
机加工：进行机加工处理得到需要尺寸的靶材产品。
此工艺是一种晶粒高定向取向的铱溅射靶材的制备。上图是铱靶材的材质分析报告。
铱靶材应用
铱溅射靶材用于薄膜沉积，通常用于燃料电池、装饰、半导体、显示器、LED和光伏器件、玻璃镀膜等。
金属铱其他应用
耐腐蚀材料：由于铱的耐腐蚀性极强，它经常被用作制造各种耐腐蚀设备，如化学实验室的器皿和设备。
电极材料：在电化学过程中，如电解和电镀，铱因其优秀的稳定性和电化学性质，常用作电极材料。
高温装置：由于铱的熔点极高（约为2446℃），因此它经常被用于制作能够承受高温的设备和部件，如火箭发动机喷嘴等。
在触点材料中：铱因其良好的抗氧化和抗磨损性能，常用于高性能电触点。
在科研领域：铱常用于制备超导材料和作为核反应中的中子源。
铱靶材系列产品
除铱靶材外，我们还可以提供铱锰合金、铱铂合金、铱钌合金、铱钯合金、铱铼合金等溅射靶材。
感谢您阅读铱靶材杂质含量及用途介绍，希望大家能对铱靶材有更好的了解。如果您想了解更多关于金属科研材料的信息，请收藏我们的网站鑫康新材料科研服务厂家https://www.xk-materials.cn/。
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