镍铬硅合金靶材材定义、特性、制备方法和应用
发布时间：2024-07-27 作者：长沙鑫康新材料 阅读量：329
镍铬硅合金靶材是一种由镍(Ni)、铬(Cr)和硅(Si)按一定比例合成的合金靶材。它具有良好的导电性、较高的硬度和耐磨性、较好的耐腐蚀性以及在高温环境下的稳定性等。主要用于制备各种功能薄膜，在半导体、显示技术、光伏等领域有着广泛的应用。
镍铬硅合金靶材特征
镍铬硅合金靶材形状：平面靶 异型定制
镍铬硅合金靶材纯度：3N
镍铬硅合金靶材尺寸：按图纸加工或者定制
我们还可以提供镍铬硅合金颗粒、镍铬硅合金片，镍铬硅合金棒
镍铬硅合金靶材制备工艺
真空脱气：使用高纯度的铬粉、镍粉和硅粉作为原料，其中镍粉和铬粉的纯度要求在99.9%以上，硅粉的纯度要求在99.99%以上，并且氧含量需要控制在一定范围内。原料混合后，在真空条件下加热至700℃，保持1小时，以去除材料中的气体。
阶段升温升压：在真空脱气之后，对混合物料进行加压，然后在不同的温度阶段逐步升温，并在升温过程中增加压力，以达到均匀的温度分布和压实材料的目的。终加热至1400℃，保持1小时，并在整个过程中控制压力，以达到所需的密度和性能。
保压炉冷：在达到预定温度和压力后，保持这些条件一段时间以确保材料的均匀性和稳定性。然后，在保持一定压力的条件下，停止加热，让靶材随炉冷却至室温。
热锻：冷却后，还需要进行热锻处理，以进一步改善材料的机械性能和结构均匀性。
加工：对热处理后的铸锭进行机械加工，使其达到所需的形状和尺寸。
上图是镍铬硅合金靶材的成分分析表
镍铬硅合金靶材应用
集成电路：在先进逻辑、存储等器件的制造中，可用于制作互连线、阻挡层、通孔、接触层等薄膜。
低辐射玻璃（Low-E 玻璃）：镀在玻璃表面的膜层中，镍铬硅薄膜通常放在功能性膜层外面，起到耐蚀、抗氧化的作用，延长膜层的使用寿命，其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使玻璃具有良好的隔热效果和透光性。
电阻薄膜：使用镍铬硅为原料的电阻薄膜具有电阻稳定、电阻温度系数低、灵敏系数高，且对温度依赖小等特点，可用于制备混合集成电路中的高精度电阻薄膜及薄膜电阻应变计等。
大面积玻璃镀膜：例如汽车镀膜，在汽车玻璃或车身表面镀上非常薄的透明薄膜，可减少光的反射，增加透光率，并抑低耀光、鬼影等。
其他领域：还包括微电子、磁记录、半导体等领域，如用于磁性随机存储器、相变随机存储器等新型存储芯片的栅极层等功能薄膜构建等。
镍铬硅合金应用
高温应用：镍铬硅合金因其耐高温和抗氧化的特性，常用于制造高温环境下工作的部件，如发动机部件、热交换器、加热元件等。
耐腐蚀环境：这种合金在化学加工、海洋工程、石油和天然气行业等腐蚀性环境中表现出良好的耐腐蚀性。
电热元件：镍铬硅合金具有较高的电阻率和良好的电热性能，适用于制造电热丝、加热器和电阻器。
航空航天：在航空航天领域，镍铬硅合金用于制造发动机部件、涡轮叶片等，这些部件需要耐高温和具备高强度。
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