常用的耐高温溅射靶材有哪些呢
发布时间：2024-11-09 作者：长沙鑫康新材料 阅读量：36
溅射靶材在物理气相沉积（PVD）过程中，被用作溅射源的材料。通过利用高能离子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出并沉积到基板上，形成均匀、紧密的薄膜。这种技术广泛应用于半导体、光学、光伏和表面处理等领域，是现代材料科学和微电子工业的基石之一。以下是十大耐高温溅射靶材介绍：
钼及钼合金靶材
- 特点：钼是一种银灰色金属，熔点高达2623°C，密度为10.2g/cm³。钼及其合金具有高熔点、良好的导电导热性、低热膨胀系数、优异的耐腐蚀性能及环境友好等优点。
- 应用：钼及钼合金靶材已广泛应用于电子电器、太阳能电池及玻璃镀膜等领域。
钌金属靶材
- 特点：钌靶材具有良好的耐热性、耐腐蚀性和机械强度，适合在高温、高压和腐蚀环境下使用。
- 制备工艺：将钌粉装入石墨模具，振实压紧后放入真空热压炉中进行单向热压烧结，烧结过程在保护气体氛围下进行，烧结温度为1600-1800℃，烧结压力为5-20MPa。
- 应用：钌靶材可用于电子器件的薄膜沉积，以及制备光学薄膜和光学镀膜等。
超高纯铝溅射靶材
- 特点：铝靶材具有高纯度和优异的导电性能，适用于半导体器件的导电层和障碍层制备。
- 市场现状：预计2029年全球超高纯铝溅射靶材市场规模将达到3.8亿美元，年复合增长率CAGR为5.6%。
- 主要生产商：包括Sumitomo Chemical、Konfoong Materials International、Linde、TOSOH、Honeywell等。
铜铟镓硒（CIGS）靶材
- 特点：CIGS靶材主要用于薄膜太阳能电池的生产。
- 应用：随着太阳能行业的快速发展，对CIGS靶材的需求也在增加。
氧化铟锡（ITO）靶材
- 特点：ITO靶材主要用于制造透明导电膜，广泛应用于触控屏和平板显示器。
- 市场地位：随着消费电子产品需求的不断增长，ITO靶材的市场地位日益重要。
钨靶材
- 特点：钨具有高熔点（3422°C）和优异的耐磨性，适用于高温和耐磨材料的溅射沉积。
- 应用：钨靶材在半导体、电子器件和耐磨涂层等领域有广泛应用。
钛靶材
- 特点：钛靶材具有良好的耐腐蚀性和生物相容性，适用于医疗器械和生物传感器的溅射沉积。
- 应用：随着医疗技术的不断发展，钛靶材在医疗器械领域的应用前景广阔。
钽靶材
- 特点：钽靶材具有高熔点（2996°C）和优异的化学稳定性，适用于高温和化学稳定材料的溅射沉积。
- 应用：钽靶材在电子器件、航空航天和化工领域有广泛应用。
铌靶材
- 特点：铌靶材具有高熔点（2468°C）和优异的超导性能，适用于超导材料和电子器件的溅射沉积。
- 应用：铌靶材在超导材料、电子器件和航空航天领域有广泛应用。
锆靶材
- 特点：锆靶材具有良好的耐腐蚀性和生物相容性，同时具有较高的熔点（1852°C），适用于耐腐蚀和生物相容材料的溅射沉积。
- 应用：锆靶材在医疗器械、化工设备和电子器件等领域有广泛应用。
综上所述，以上十大耐高温溅射靶材各具特色，广泛应用于半导体、光学、光伏、电子器件、医疗器械等多个领域。随着科技的进步和市场需求的变化，这些靶材的研发正朝着更高性能、更低成本和更环保的方向发展。
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