钴铁合金靶材定义、特性、制备方法和应用
发布时间：2024-12-27 作者：长沙鑫康新材料 阅读量：151
钴铁合金靶材主要由钴（Co）和铁（Fe）两种金属组成，其成分比例可以根据具体应用需求进行调整。常见的钴含量范围包括5%、10%、15%、50%、60%、70%等。钴和铁在合金中是无限固溶的，这意味着它们可以以任意比例混合形成均匀的合金。
钴铁靶材特征
钴铁靶材形状：平面靶、异型定制
钴铁靶材纯度：3N5
钴铁靶材尺寸：按图纸加工或其他者定制
我们还可以提供钴铁合金颗粒、钴铁合金棒，钴铁合金粉末
钴铁合金靶材制备工艺
原料准备：选用纯度不低于 99.99% 的钴块和铁块作为基础原料。根据目标钴铁合金靶材的成分要求，精确称量钴和铁的质量。
真空熔炼：将称好的钴块和铁块放入熔炼炉的坩埚中。将炉内真空度抽到10⁻³ Pa 以下。首先将原料加热至 1500 - 1600℃，使钴和铁完全熔化。在熔炼过程中，通过电磁搅拌装置对熔液进行搅拌，搅拌速度控制在 200 - 300 r/min。搅拌的目的是使钴和铁充分混合，保证合金成分的均匀性。持续熔炼 30 - 60 分钟，确保合金成分达到均匀状态。
浇铸成型：当合金熔液达到均匀状态后，将温度调整至 1400 - 1450℃，然后缓慢将熔液浇铸到预热好的模具中。浇铸速度控制在 5 - 10 kg/min，避免浇铸速度过快导致熔液飞溅或产生气孔。浇铸完成后，让模具在自然环境下缓慢冷却至室温。
热加工：将冷却后的合金坯料加热至 1000 - 1100℃，然后在锻造设备上进行锻造。经过锻造后的坯料再进行轧制加工。
机械加工：对热处理后的钴铁合金进行机械加工，制成所需形状和尺寸的靶材。
钴铁合金靶材的应用
半导体制造：在集成电路制造过程中，钴铁合金靶材可用于溅射镀膜工艺，形成金属互连层、接触层或阻挡层。
装饰镀膜：用于钟表、首饰等，具有良好的耐磨性和美观性。
低电阻薄膜：用于电子器件，制造低电阻薄膜材料。
工具镀薄膜：提高工具的硬度、耐磨性、抗腐蚀性或降低摩擦系数。
钴铁合金其他应用
磁性材料：钴铁合金靶材因其高导磁性，被用于制造各种磁性材料，如永磁体、电磁铁和磁性传感器。
电子工业：在电子工业中，钴铁合金靶材用于溅射镀膜，制造电子设备的磁性部件和导电部件。
航空航天领域：由于其高强度和耐腐蚀性，钴铁合金靶材被用于制造航空航天领域的高强度部件。
电机和发电机：钴铁合金用于制造电机和发电机的磁铁，提供高效的磁能转换。
化工设备：钴铁合金的耐腐蚀性使其在化学工业中作为耐蚀材料使用，如泵、阀门和管道。
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