钴锆钽靶材是一种由钴（Co）、锆（Zr）、钽（Ta）组成的多元合金靶材，一般来说， 钴的含量范围在80-90wt%，锆的含量范围在10-15wt%，钽的含量在5-10wt%。广泛应用于磁记录、微电子器件等领域。
钴锆钽合金靶材特征钴锆钽合金靶材形状：平面靶 异型定制
钴锆钽合金靶材纯度：3N5
钴锆钽合金靶材尺寸：按图纸加工或者定制
我们还可以提供钴锆钽合金颗粒、钴锆钽合金棒，钴锆钽合金粉末
钴锆钽合金靶材制备方法按照靶材所需的配比称量Co、Zr和Ta原材料,将原材料装入磁悬浮感应熔炼炉的水冷坩埚内,得到混合物料;
将磁悬浮感应熔炼炉抽至真空后,充入保护气体洗炉再次抽真空,随后充入新的保护气体,让混合物料在真空环境下加热到 1300~1450°℃,持续时间为 8~12min 进行熔炼,然后升温至1500℃使混合物料全部熔化,后冷却至室温后得到合金锭；
将合金锭置于真空感应熔炼炉的氧化物坩埚内,真空感应熔炼炉抽至真空后充入新的保护气体,让合金锭在真空环境下加热到1250~1350℃。使合金锭全部熔化,再进行持续时间为 3~5min 的精炼后得到合金熔体；
开启浇铸系统,使用漏斗控制浇铸速度,对模具进行浇铸,浇铸完成后将熔体冷却至室温后得到铸锭；
将铸锭加热后进行轧制,每完成需轧制总变形量的10~20%的轧制工作后,重新加热再进行轧制,如此循环直至完成轧制工作,后冷却得到靶坯；
钴锆钽合金靶材的应用领域半导体制造：用于物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）工艺，形成薄膜扩散屏障，保护铜互连。
光学镀膜：用于制造高透光率和耐磨性的薄膜，应用于光学器件和显示屏。
电子工业：钴锆钽合金靶材可用于电子工业中的溅射镀膜工艺，用于制造集成电路、导电路径和接触点。
钴锆钽合金的应用领域高温应用：由于其高熔点和高温稳定性，钴锆钽合金靶材适用于高温环境下的部件，如高温炉的加热元件。
航空航天领域：钴锆钽合金的高强度和耐高温特性使其适用于航空航天领域的零部件。
化工设备：钴锆钽合金的耐腐蚀性使其适用于制造化工设备的部件，如泵、阀门和管道。
医疗领域：锆和钽的生物相容性使其在医疗植入物中有潜在的应用，钴锆钽合金也可能用于制造某些医疗器械。
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