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钴铁硼靶材定义、特性、制备方法和应用

发布时间:2025-01-16 作者:长沙鑫康新材料 阅读量:150

钴铁硼靶材


钴铁硼靶材主要由钴、铁和硼三种元素组成,是一种重要的磁性材料。各元素的比例会根据具体的应用需求有所不同,常见的有Co60%、Fe20%、B20%成分的合金靶材。

钴铁硼靶材特征
钴铁硼靶材形状:平面靶 异型定制
钴铁硼靶材纯度:2N5
钴铁硼靶材尺寸:按图纸加工或者定制
我们还可以提供钴铁硼圆片,钴铁硼块,钴铁硼颗粒

钴铁硼靶材制备方法
原材料准备:选择高纯度的钴(Co)、铁(Fe)和硼(B)作为原材料,以确保靶材的纯度和质量。
合金配比:根据所需的合金性能,通过理论计算和实验验证确定钴、铁和硼的佳配比。常见的配比为 Co:Fe:B = 60:20:20(原子比),但具体比例可以根据应用需求进行调整。
真空熔炼:在真空或保护气氛中熔炼高纯度的钴、铁和硼,以确保合金的纯度和均匀性。常用的熔炼技术包括真空感应熔炼(VIM)或电弧熔炼(EAF)。
温度控制:熔炼过程中需要精确控制温度,确保金属完全熔化并混合均匀。钴铁硼合金的熔炼温度通常在1500°C左右。
浇注:将熔融的合金溶液倒入预先设计的模具中,冷却后形成铸锭。模具可以是水冷铜模或其他适合的材料,以确保快速均匀冷却。
冷却:控制冷却速率,以形成均匀的微观结构。快速冷却有助于细化晶粒,提高合金的机械性能和磁性能。
退火处理:对铸锭进行热处理,如退火,以改善合金的微观结构和宏观性能。退火温度通常在800°C至1000°C之间,保温时间根据铸锭的尺寸和形状而定,一般为1至2小时。
固溶处理:在某些情况下,可能需要进行固溶处理,以进一步提高合金的均匀性和性能。
机械加工:包括切割、打磨等,以达到所需的尺寸和形状。

钴铁硼靶材成分表

钴铁硼靶材的应用领域
磁记录材料:可用于制造硬盘驱动器的磁记录层、磁传感器的敏感元件等磁性薄膜
半导体工业:用于制备高性能的磁性薄膜,这些薄膜在集成电路、存储器、传感器等器件中有重要应用。
光学镀膜:用于制备光学镀膜,改善材料的光学性能。

钴铁硼应用领域
新能源领域:在太阳能电池制造中,可用于制备电极材料、电池隔膜等关键部件,有助于提高电池的性能和效率。
机械工程领域:其高硬度、高强度和良好的耐磨性可用于制备机械零部件的表面涂层,如刀具、模具等,提高零部件的使用寿命。
航空航天领域:由于其高强度、高硬度和良好的耐腐蚀性,可用于制造航空航天领域的发动机叶片、高速旋转的机械部件等。
医疗器械领域:可用于制造医疗器械中的磁性部件,如磁共振成像(MRI)设备等。


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