钴铬镍合金靶材定义、特性、制备方法和应用
发布时间：2025-02-11 作者：长沙鑫康新材料 阅读量：109
钴铬镍合金靶材是一种高性能的合金靶材，常见的制备方法有熔炼铸造法，粉末冶金法。广泛应用于薄膜沉积、半导体制造、航空航天等领域。
钴铬镍合金靶材特征钴铬镍靶材形状：平面靶 异型定制
钴铬镍靶材纯度：2N5
钴铬镍靶材尺寸：按图纸加工或者定制
我们还可以提供钴铬镍圆片，钴铬镍棒，钴铬镍颗粒
钴铬镍靶材制备方法原料准备：选择高纯度的钴、铬、镍金属原料，纯度一般要求在99.95%以上。根据所需的钴铬镍合金比例，精确称量原材料。例如，若要制备特定性能的合金靶材，可能按原子比 Co:Cr:Ni=1:1:1 等比例称取。
熔炼与合金化：将称量好的钴、铬、镍原材料装入真空熔炼炉或磁悬浮感应熔炼炉的水冷坩埚内。在高真空或惰性气体（如氩气）保护下，逐渐升温至适当的熔炼温度，通常在1300-1600℃之间，通过感应加热或电弧加热将原材料熔化并混合均匀，形成合金熔体。熔炼过程中持续搅拌，使合金成分充分均匀混合，熔炼时间一般为2-4小时。
铸造成型：将熔炼好的合金熔体浇注到预热的模具中，形成铸锭。模具需提前预热至适当温度，如 200-300℃，以防止熔体在浇注过程中快速冷却而导致的成分偏析或缺陷。可以采用水冷或空冷的方式加速冷却，以获得均匀的微观结构。
热处理：对铸锭进行多次热锻处理，热锻温度一般在800-1200℃之间，以细化晶粒、改善组织均匀性并消除残余应力。在热锻过程中或热锻后，进行退火处理，退火温度和时间根据合金成分和性能要求确定，一般退火温度在 600-900℃，保温时间为 1-3 小时，以进一步消除应力，稳定组织。
机械加工：对铸造后的合金坯料进行机械加工，如车削、铣削、切割、打磨等，使其达到所需的靶材尺寸和形状精度。
钴铬镍合金靶材的应用领域磁记录技术：用于制造硬盘驱动器中的磁记录薄膜
半导体制造：用于制造半导体器件中的导电层和阻挡层。
光学领域：在光学镀膜中，可制备具有特殊光学性能的薄膜，用于光学镜片、光学传感器等，以实现增透、反射、滤光等功能。
钴铬镍合金的应用领域航空航天领域：用于制造航天器零部件、喷气发动机叶片和燃烧室等部件。
电子领域：用于制造电子元器件、半导体芯片和磁性材料等。
石油化工领域：用于制造石油化工设备、高压反应容器和耐腐蚀管道等。
医疗器械领域：用于制造植入式医疗设备、人工关节和骨科植入物等。
新能源领域：用于制造太阳能电池板、燃料电池和锂等。
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