粉末冶金法制备钼溅射靶材
发布时间：2022-04-26 作者：材料类科研服务平台 阅读量：373
由于钼是一种高熔点（2620°C）的金属，因此,钼溅射靶材的主要制备方法以粉末冶金方法为主。
粉末冶金法制备钼溅射靶材三大关键点
1、选择高纯钼粉作为原料;
2、选择能实现快速致密化的成形烧结技术, 以保证靶材的低孔隙率, 并控制晶粒度;
3、制备过程严格控制杂质元素的引入。其中钼粉原料的纯度是保证终钼溅射靶材纯度的主要因素, 其纯度至少需要99. 95% 以上。
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