高纯4N（99.99%） 钼镧合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： Al2O3
纯度 ： 4N
形状 ： 平面靶材
规格 ： g
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥500.00/Kg左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称：氧化铝（Al2O3）靶材
纯度：4N
规格：D56.2x3mm 或者按照规格定制
氧化铝靶材是一种由高纯度氧化铝（Al₂O₃）制成的材料，广泛应用于薄膜制备技术中，如磁控溅射和电子束蒸发等。它具有高硬度、良好的化学稳定性和热稳定性，适用于半导体、光电和装饰保护等领域。氧化铝靶材的纯度通常要求在99.99%以上，以确保薄膜的质量。它的主要应用包括制造集成电路中的绝缘层和导电层、光学涂层、耐火材料等。
氧化铝靶材物理化学性质
高熔点：氧化铝的熔点约为2072°C，这使得它在高温环境下具有很好的稳定性。
高硬度：氧化铝的硬度较高，莫氏硬度为9，仅次于金刚石，适用于制造耐磨涂层和硬质材料。
良好的绝缘性：氧化铝是一种良好的电绝缘材料，适用于电子设备中的绝缘层。
化学稳定性：氧化铝在大多数化学环境中表现出良好的化学稳定性，不易被腐蚀。
低热膨胀系数：氧化铝的热膨胀系数较低，这使得它在温度变化下尺寸稳定，适用于精密工程。
氧化铝靶材的制备
原材料准备：选择高纯度的氧化铝粉末作为原材料。
成型：将氧化铝粉末通过压制成型，形成所需的形状，如片状、块状或圆柱形。
烧结：将成型后的坯体在高温下进行烧结，通常在1500°C至1800°C之间，以提高其密度和强度。
机械加工：对烧结后的靶材进行机械加工，包括切割、打磨等，以达到所需的尺寸和形状。
表面处理：对靶材表面进行清洗和抛光，以确保表面质量和溅射性能。
氧化铝靶材应用领域
电子工业：氧化铝靶材用于制造电子设备中的绝缘层和保护层，如集成电路、微电子机械系统（MEMS）和传感器。
光学涂层：氧化铝靶材用于制造光学涂层，如增透膜、反射膜和防污膜，提高光学元件的性能和寿命。
陶瓷材料：氧化铝是制造高性能陶瓷材料的重要原料，如氧化铝陶瓷，用于制造高温陶瓷部件和陶瓷轴承。
涂层技术：氧化铝靶材用于物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）技术，制造耐磨、耐腐蚀和高温稳定的涂层。
医疗领域：氧化铝的生物相容性使其在医疗植入物和生物传感器中有潜在的应用。
