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陶瓷靶材

陶瓷靶材是指用于溅射镀膜工艺的陶瓷材料，陶瓷靶材的种类繁多，其主要分类如下：氧化物类、硅酸盐类、氮化物类、硼化物类、碳化物类、铝基陶瓷靶材、铜基陶瓷靶材、稀土元素陶瓷靶材等。

产品栏目：

全部金属靶材合金靶材陶瓷靶材

元素：

全部 Al B C Ce Cr Cu Fe Ga Gd Hf In La Mg Mo Nb Ni Pb Sb Se Si Sm Sn Ta Ti V W Y Yb Zn Zr

氧化铟锡（ITO）靶材

纯度: 4N

￥ 400.00

石墨（C）靶材

纯度: 4N,5N

￥ 600.00

硒靶材 (Se)

纯度: 4N,5N,6N

￥ 460.00

氧化铝（Al₂O₃）陶瓷靶材

纯度: 4N

￥ 500.00

二氧化铪（HfO）陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

￥ 1200.00

二氧化锆（ZrO₂）陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

￥ 1200.00

三氧化钼（MoO₃）陶瓷靶材

纯度: 3N

￥ 600.00

三氧化钨（WO₃）陶瓷靶材

纯度: 3N

￥ 1300.00

氧化镍（NiO）陶瓷靶材

纯度: 3N

￥ 400.00

一氧化硅（SiO）陶瓷靶材

纯度: 3N,4N

￥ 1000.00

二氧化硅（SiO₂）陶瓷靶材

纯度: 4N

￥ 1000.00

氧化铈陶（CeO₂）瓷靶材

纯度: 3N,4N

￥ 500.00

氧化铬（Cr₂O₃）陶瓷靶材

纯度: 3N,4N

￥ 600.00

氧化铟（In₂O₃）陶瓷靶材

纯度: 4N

￥ 600.00

氧化锡（SnO₂）陶瓷靶材

纯度: 3N,3N5

￥ 600.00

氧化镁（MgO）陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

￥ 650.00

二氧化钛（TiO₂）陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

￥ 400.00

氧化铌（Nb₂O₅）陶瓷靶材

纯度: 3N5

￥ 500.00

五氧化二钽（Ta₂O₅）陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

￥ 1200.00

氧化钐（Sm₂O₃）陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

￥ 350.00

氧化镓（Ga₂O₃）陶瓷靶材

纯度: 4N

￥ 400.00

氧化钆（Gd₂O₃）陶瓷靶材

纯度: 3N

￥ 1200.00

氧化钒（V₂O₅）陶瓷靶材

纯度: 3N

￥ 1500.00

碳化硅（SiC）陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

￥ 750.00

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