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陶瓷靶材

陶瓷靶材是指用于溅射镀膜工艺的陶瓷材料,陶瓷靶材的种类繁多,其主要分类如下:氧化物类、硅酸盐类、氮化物类、硼化物类、碳化物类、铝基陶瓷靶材、铜基陶瓷靶材、稀土元素陶瓷靶材等。

氧化铟锡(ITO)靶材

纯度: 4N

¥ 400.00

石墨(C)靶材

纯度: 4N,5N

¥ 600.00

硒靶材 (Se)

纯度: 4N,5N,6N

¥ 460.00

氧化铝(Al₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 500.00

二氧化铪(HfO)陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

¥ 1200.00

二氧化锆(ZrO₂)陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

¥ 1200.00

三氧化钼(MoO₃)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 600.00

三氧化钨(WO₃)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 1300.00

氧化镍(NiO)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 400.00

一氧化硅(SiO)陶瓷靶材

纯度: 3N,4N

¥ 1000.00

二氧化硅(SiO₂)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 200.00

氧化铈陶(CeO₂)瓷靶材

纯度: 3N,4N

¥ 500.00

氧化铬(Cr₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 3N,4N

¥ 600.00

氧化铟(In₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 600.00

氧化锡(SnO₂)陶瓷靶材

纯度: 3N,3N5

¥ 600.00

氧化镁( MgO₂)陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

¥ 650.00

二氧化钛(TiO₂)陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

¥ 400.00

氧化铌(Nb₂O₅)陶瓷靶材

纯度: 3N5

¥ 500.00

五氧化二钽(Ta₂O₅)陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

¥ 1200.00

氧化钐(Sm₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 3N5,4N

¥ 350.00

氧化镓(Ga₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 400.00

氧化钆(Gd₂O₃)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 1200.00

氧化钒(V₂O₅)陶瓷靶材

纯度: 3N

¥ 1500.00

碳化硅(SiC)陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 750.00