高纯3N5（99.95%）二氧化锆陶瓷靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： ZrO₂
纯度 ： 3N5 4N
形状 ： 平面靶材
规格 ： g
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥1200.00/Kg左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称：二氧化锆（ZrO₂）靶材
纯度：3N5,4N
规格：D50.8X5mm，D76.2X3.175mm 或者按规格定制
二氧化锆靶材是一种由高纯度二氧化锆（ZrO₂）制成的靶材，密度5.89g/cm3，熔点为 2715℃，沸点为4300℃。具有高熔点、高硬度、良好的化学稳定性和优异的机械性能，广泛应用于陶瓷、耐火材料和电子器件等领域。
二氧化锆靶材物理化学性质
高熔点：二氧化锆的熔点约为2700°C，这使得它在高温环境下具有很好的稳定性。
高硬度：二氧化锆具有较高的硬度，适用于制造耐磨涂层和硬质材料。
良好的绝缘性：二氧化锆是一种良好的电绝缘材料，适用于电子设备中的绝缘层。
化学稳定性：二氧化锆在大多数化学环境中表现出良好的化学稳定性，不易被腐蚀。
低热膨胀系数：二氧化锆的热膨胀系数较低，这使得它在温度变化下尺寸稳定，适用于精密工程。
光学透明性：二氧化锆具有良好的光学透明性，适用于制造光学涂层和透明陶瓷。
二氧化锆靶材的制备
原材料准备：选择高纯度的二氧化锆粉末作为原材料。
成型：将二氧化锆粉末通过压制成型，形成所需的形状，如片状、块状或圆柱形。
烧结：将成型后的坯体在高温下进行烧结，通常在1500°C至1800°C之间，以提高其密度和强度。
机械加工：对烧结后的靶材进行机械加工，包括切割、打磨等，以达到所需的尺寸和形状。
表面处理：对靶材表面进行清洗和抛光，以确保表面质量和溅射性能。
二氧化锆靶材应用领域
电子工业：二氧化锆靶材用于制造电子设备中的绝缘层和保护层，如集成电路、微电子机械系统（MEMS）和传感器。
光学涂层：二氧化锆靶材用于制造光学涂层，如增透膜、反射膜和防污膜，提高光学元件的性能和寿命。
陶瓷材料：二氧化锆是制造高性能陶瓷材料的重要原料，如氧化锆陶瓷，用于制造高温陶瓷部件和陶瓷轴承。
涂层技术：二氧化锆靶材用于物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）技术，制造耐磨、耐腐蚀和高温稳定的涂层。
医疗领域：二氧化锆的生物相容性使其在医疗植入物和生物传感器中有潜在的应用。
