高纯3N5（99.95%）氧化锡陶瓷靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： SnO₂
纯度 ： 3N 3N5
形状 ： 平面靶材
规格 ： 1Kg
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥600.00/片左右， 价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
氧化锡陶瓷靶材是一种灰色无机化合物，密度为6.95g/cm3，熔点为 1630℃。氧化锡陶瓷材料是一种具有直接带隙的宽禁带半导体材料,具有良好的化学、机械、热稳定性、迁移率高的特征,是一种潜在的代替ITO的材料。如需更多详情，欢迎电话咨询获得更多优惠!
氧化锡陶瓷靶材规格
尺寸:
D76.2*6.35mm , 根据要求定制尺寸
氧化锡陶瓷靶材制备方法
首先采用放电等离子体烧结方法(SPS),通过对烧结温度、压力、保温时间及升温速率等工艺参数分析,在烧结工艺为1000℃-40MPa-3min-200℃/min,获得纯SnO2陶瓷靶材的相对密度为96.6%。冷等静压-烧结法无法制得高致密度的SnO2陶瓷靶材。
氧化锡陶瓷靶材应用
SnO2薄膜作为一种优良的功能材料,在透明导电薄膜和化学气敏传感器等领域有广泛的应用前景。
