高纯4N（99.99%）钪靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： ITO
纯度 ： 4N
形状 ： 平面靶材 旋转靶材
规格 ： 片
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥400/片左右，
氧化铟锡ITO是由不同比例的铟、锡和氧组成的三元组合物陶瓷靶材。ITO 靶材是薄膜工业中使用广泛的化合物之一。它在真空下蒸发或溅射以在 LCD 制造和各种光学涂层中生成透明导电层。如需更多详情请欢迎电话咨询获得更多优惠!
氧化铟锡 (ITO)靶材广泛用于形成电透明薄膜。这些薄膜采用直流磁控溅射工艺制作平板显示器、太阳能电池、气体传感器等中的电极。ITO溅射靶材要求高纯度、均匀的微观结构、高密度和高导电性，以提高ITO薄膜的性能。
ITO靶材规格
直 径 ：φ25.4mm， φ50mm， φ50.8mm， φ60mm ，φ76.2mm， φ80.0mm ，φ101.6mm， φ100mm
厚 度 ：3mm ， 3.175mm
熔 点 ： 1,800 ℃
沸 点 ：2830℃
电阻率：≤1.8×10-4Ω·cm
实际尺寸：5~15μm
电阻率：<0.12mΩ·cm
线热膨胀系数：8.2×10-3K-1
ITO靶材制造工艺
制造，热压，烧结的弹性体粘合到背板上，清洁和终包装，清洁后可在真空中使用，
ITO靶材应用
氧化铟锡 (ITO) 溅射靶材广泛用于形成电透明薄膜。这些薄膜采用直流磁控溅射工艺制作平板显示器、太阳能电池、气体传感器等中的电极。还用于电子领城，因为电子领域对于材料的要求普遍比较高。它为电子行业的发展起到一定的推进作用，同时靶材能够延长电子产品的使用寿命，而且质量也比较符合检测标准，一般很少会出现产量不合格的现象，同时在外观上也能符合人们的要求。
