高纯2N5（99.5%）氮化钽陶瓷靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： TaN
纯度 ： 2N5--4N
形状 ： 平面靶材
规格 ： 1Kg
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥1800.00/片左右（99.5% D60 * 4mm），价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称：氮化钽（TaN）陶瓷靶材
纯度：2N5，3N
规格：D25.4 x 6.35mm，D50.8x3mm ，D75x100mm 或者规格生产
氮化钽（TaN）靶材是一种重要的陶瓷材料，具有优异的物理和化学性质，广泛应用于电子、光学和涂层技术等领域。
氮化钽靶材物理和化学性质
熔点：3090℃，具有高熔点，适用于高温环境。
密度：13.4 g/cm³，确保了靶材的稳定性和耐用性。
显微硬度：1100 kg/mm²，表现出优异的耐磨性能。
热导率：9.54 W/(m·K)，能够快速传递热量，降低热应力。
电阻率：128 μΩ·cm，适合用于制造高精度片状电阻。
氮化钽靶材的制备
原材料准备：选择高纯度的钽粉和氮源（如氨气）作为原材料。
混合：将钽粉和氮源按化学计量比混合均匀。
成型：将混合物通过压制成型，形成所需的形状，如片状、块状或圆柱形。
烧结：将成型后的坯体在高温下进行烧结，通常在1500°C至2000°C之间，以提高其密度和强度。
机械加工：对烧结后的靶材进行机械加工，包括切割、打磨等，以达到所需的尺寸和形状。
表面处理：对靶材表面进行清洗和抛光，以确保表面质量和溅射性能。
氮化钽靶材应用领域
电子工业：氮化钽靶材用于制造电子设备中的导电层和保护层，如集成电路、微电子机械系统（MEMS）和传感器。
光学涂层：氮化钽靶材用于制造光学涂层，如增透膜、反射膜和防污膜，提高光学元件的性能和寿命。
涂层技术：氮化钽靶材用于物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）技术，制造耐磨、耐腐蚀和高温稳定的涂层。
航空航天：氮化钽的高熔点和化学稳定性使其适用于航空航天领域的高温部件，如喷嘴和喷管。
能源领域：氮化钽靶材用于制造太阳能电池的电极和保护层，提高电池的光电转换效率。
