高纯2N5（99.5%）氮化钽陶瓷靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： TaN
纯度 ： 2N5--4N
形状 ： 平面靶材
规格 ： 1Kg
包装 ： 三层真空包装或充氩气保护，符合IATA、DOT包装规范
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥1000.00/片左右（99.5% D60 * 4mm），价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
氮化钽陶瓷靶材是一种分子式为TaN的氮化物陶瓷溅射材料, 其熔点3090℃，密度14.3g/cm³。它有时用于在铜或其他导电金属与介电绝缘膜（如热氧化物）之间创建阻挡层或“胶水”层。这些薄膜在集成电路制造过程中沉积在硅片顶部，以创建薄膜表面贴装电阻器和其他电子应用。如需更多详情，欢迎电话咨询获得更多优惠!
氮化钽 (TaN) 薄膜是一种有吸引力的扩散阻挡涂层材料，用于电子工业。TaN薄膜是通过直流溅射、CVD和脉冲激光沉积等方法制造的。在这项研究中，为了降低能源成本，在低真空条件下通过反应溅射将 TaN 薄膜沉积在 Si (111) 晶片、钠玻璃基板上。N2/Ar 气的质量流量在 N2 气下从 9% 到 23% 不等。在较低的 N2 气流下，获得结晶 TaN 薄膜。使用 XRD 在其他速率范围内观察到非晶如 TaN 薄膜。通过 GDS 深度分析，在结晶 TaN 膜与 Si 晶片和玻璃基板之间观察到 Ta 氧化物层。膜厚为200-400nm。
氮化钽陶瓷靶材规格
直径：大 355.6 毫米（14 英寸）。
单件尺寸：长度：<350mm，宽度：<250mm，厚度：>1mm，
如果尺寸比这个大，我们可以把它做成 45 度或 90 度的瓷砖接头
氮化钽陶瓷靶材应用
氮化钽靶材用于薄膜沉积、装饰、半导体、显示器、LED和光伏器件、功能涂层以及其他光信息存储空间行业、汽车玻璃和建筑玻璃等玻璃涂层行业、光通信等。
