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产品名称：铬钌合金（CrRu10）靶材
纯度：3N
规格：直径25*3mm 或者按规格定制
铬钌合金靶材是一种由铬（Cr）和钌（Ru）组成的合金材料，制成的靶材主要用于磁控溅射等镀膜工艺，特别是在半导体器件、光电设备及高性能薄膜的制造过程中。
铬钌合金靶材特性
- 硬度较高：铬和钌都具有相对较高的硬度，这使得合金靶材在溅射过程中能够保持较好的形状和结构稳定性，减少靶材的磨损和变形，从而保证镀膜的均匀性和稳定性。
- 耐腐蚀性：铬本身具有良好的耐腐蚀性，钌也在一定程度上增强了合金的抗腐蚀性能。这使得铬钌合金靶材在一些对耐腐蚀要求较高的环境或应用中具有优势，例如在化学工业或某些特殊的电子器件制造中。
- 良好的导电性：合金中的铬和钌都具有一定的导电性，这对于在镀膜过程中实现电荷传输和薄膜的均匀沉积非常重要，有助于获得高质量的镀膜效果。
铬钌合金靶材应用
- 电子领域：在半导体制造中，铬钌合金薄膜可用于制作电极、导线等部件。例如，在集成电路的金属化过程中，铬钌合金薄膜可以作为导电层，提供良好的导电性能和连接性能，确保电路的正常运行。
- 光学领域：由于其特殊的光学性质，铬钌合金薄膜可用于光学涂层，如抗反射涂层、增透涂层等。这些涂层可以应用在光学器件、眼镜镜片、摄像头镜头等产品上，提高光学性能和表面质量。
- 装饰领域：铬钌合金靶材通过溅射镀膜可以在各种材料表面形成具有金属光泽和独特颜色的薄膜，用于装饰目的，如在首饰、手表、工艺品等表面制造出美观的外观效果。
- 其他领域：铬钌合金靶材还可能在一些特殊的工业应用中发挥作用，例如在高温环境下的部件涂层、耐磨涂层等方面，利用其耐高温、耐磨等特性来提高部件的性能和使用寿命。
