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硼(B)靶材 ¥550.00


高纯3N(99.9%)硼靶材,价格以当日报价为准,需联系销售报价!!!


元素 : B     

纯度 : 99.9%     

形状 : 平面靶材     

规格 : 片     

包装 : 真空包装、纸箱、木箱     

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商品详情

市场参考价格:¥550.00/片左右, 价格仅供参考,如有需要,请咨询报价,以当日报价为准!

产品:镍钛合金(NiTi)靶材

纯度:3N

规格:D25x2mm, 或者按规格定制


硼靶材是一种用于磁控溅射镀膜的材料,主要成分是硼(B),通常被加工成特定的形状,如圆形或矩形。硼靶材在科研和工业应用中具有重要作用,特别是在半导体、光学镀膜、磁记录等领域。


硼靶材


硼靶材的制备工艺

  1. 准备原料:使用高纯度的硼粉末,纯度一般要求在99.9%以上。
  2. 混合粉末:将硼粉末与其他元素粉末(如铁、钴、硅等)按照一定比例放入球磨机中进行混合,以确保粉末充分混合均匀。
  3. 压制成型:将混合好的粉末放入模具中,在一定的压力下进行压制成型。
  4. 烧结:将压制成型的靶材放入烧结炉中进行烧结,以确保靶材充分烧结致密。
  5. 加工处理:对烧结好的靶材进行加工处理,如切割、打磨、抛光等,以获得所需尺寸和表面质量的硼靶材。

硼靶材的应用领域

  1. 半导体制造:用于制备掺杂源,调整半导体材料的电学性质。
  2. 核磁共振成像(MRI):用于硼中子俘获治疗(BNCT)的靶材,癌症治疗。
  3. 粒子加速器:作为粒子束的轰击目标,用于产生各种粒子,如中子、正电子等。
  4. 核反应研究:用于研究核反应机理和核数据的靶材。
  5. 能源领域:在核能、太阳能等能源领域,作为核燃料或太阳能电池的组成部分。