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钴铁硼(CoFeB)靶材 ¥1200.00


高纯3N(99.9%)钴铁硼靶材,价格以当日报价为准,需联系销售报价!!!


元素 : CoFeB     

纯度 : 3N     

形状 : 平面靶材     

规格 : 片     

包装 : 真空包装、纸箱、木箱     

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商品详情

市场参考价格:¥1200.00/件左右,价格仅供参考,如有需要,请咨询报价,以当日报价为准!

产品名称:钴铁硼(CoFeB)靶材

纯度:99.9%

规格:D50.8x2mm 或者按照规格定制


钴铁硼靶材是一种由铁(Fe)、钴(Co)和硼(B)三种元素组成的合靶材,常见的配比为 Co:Fe:B = 60:20:20(原子比),但具体比例可以根据应用需求进行调整。其 具有高饱和磁感应强度、低矫顽力和良好的软磁性能 。广泛应用于磁记录、磁传感器、光学镀膜和电子领域。


钴铁硼靶材


钴铁硼靶材物理化学性质
高饱和磁感应强度:钴铁硼合金具有非常高的饱和磁感应强度,通常在2.4 T左右,这使其在磁记录和磁存储设备中表现出色。
低矫顽力:钴铁硼合金的矫顽力较低,通常在10 Oe以下,这使得它在磁化和退磁过程中需要较小的磁场,适用于高频应用。
良好的软磁性能:钴铁硼合金具有良好的软磁性能,磁滞回线窄,磁化和退磁过程容易,适用于高频率和高效率的磁性器件。
高电阻率:硼的加入提高了合金的电阻率,有助于减少涡流损耗,提高材料的高频性能。
良好的加工性能:钴铁硼合金具有良好的加工性能,可以方便地制成各种形状和尺寸的靶材。


钴铁硼靶材制备方法
原材料准备:选择高纯度的钴、铁和硼作为原材料。
合金配比:根据所需的合金性能,通过理论计算和实验验证确定钴、铁和硼的佳配比。常见的配比为 Co:Fe:B = 60:20:20(原子比),但具体比例可以根据应用需求进行调整。
熔炼:在真空或保护气氛中熔炼高纯度的钴、铁和硼,以确保合金的纯度和均匀性。常用的熔炼技术包括真空感应熔炼(VIM)或电弧熔炼(EAF)。
浇注和铸锭:将熔融的合金溶液倒入预先设计的模具中,冷却后形成铸锭。模具可以是水冷铜模或其他适合的材料,以确保快速均匀冷却。
热处理:对铸锭进行热处理,如退火,以改善合金的微观结构和宏观性能。退火温度通常在800°C至1000°C之间,保温时间根据铸锭的尺寸和形状而定,一般为1至2小时。
机械加工:对热处理后的铸锭进行机械加工,形成靶坯。加工过程包括切割、打磨等,以达到所需的尺寸和形状。
精加工:对靶坯进行进一步的机械加工,包括切割、打磨和抛光,以确保表面平整光滑,减少表面粗糙度。
表面处理:对靶材表面进行清洗和钝化处理,以提高靶材的耐腐蚀性。


钴铁硼靶材应用领域
磁记录:钴铁硼靶材用于制造磁记录介质,如硬盘驱动器的磁头和磁记录层,提高存储密度和读写速度。
磁存储:在磁存储设备中,钴铁硼靶材用于制造高密度存储介质,提高存储容量和性能。
自旋电子学:钴铁硼靶材在自旋电子学器件中具有重要应用,如自旋阀和磁随机存取存储器(MRAM)。
高频器件:由于其高电阻率和低矫顽力,钴铁硼靶材适用于高频磁性器件,如高频变压器和电感器。
传感器:钴铁硼靶材用于制造各种磁性传感器,如霍尔传感器和磁阻传感器,提高传感器的灵敏度和响应速度。