高纯3N（99.9%） 钴钼合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！
元素 ： CoMo
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
规格 ： 片
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥580.00/片左右， 价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称：钴钼（CoMo）合金靶材
纯度：3N
规格：D25.2x3mm 或者按规格定制
钴钼合金靶材是一种由钴（Co）和钼（Mo）两种金属组成的合金靶材。根据不同的应用需求，钴和钼的比例会有所不同，常见的有 CoMo50（钴和钼各占约 50%）等合金体系。其具有优异的物理、化学和机械性能。由于其高熔点、良好的耐腐蚀性和高温稳定性，钴钼合金靶材广泛应用于薄膜沉积工艺（如溅射镀膜）中，特别是在电子、光学、磁学和能源等领域具有重要应用。
钴钼合金靶材特征
钴钼靶材形状：平面靶 异型定制
钴钼靶材纯度：3N5
钴钼靶材尺寸：按图纸加工或者定制
我们还可以提供钴钼圆片，钴钼镍棒，钴钼颗粒
钴钼合金靶材制备方法
熔炼法：将高纯度的钴和钼原料按一定比例混合后，放入真空感应熔炼炉或电弧熔炼炉中进行熔炼。在熔炼过程中，通过精确控制温度、时间和熔炼气氛等参数，使钴和钼充分熔合，形成均匀的合金熔体，然后通过浇铸等方式成型。
粉末冶金法：先将钴和钼制成粉末，然后通过混合、压制、烧结等工艺将粉末制成合金靶材。这种方法可以精确控制合金的成分和微观结构，制备出高性能的钴钼合金靶材，尤其适用于制备复杂形状和高精度的靶材。
钴钼合金靶材应用领域
半导体行业：在半导体芯片制造中，钴钼合金靶材常用于物理气相沉积（PVD）工艺，用于在半导体晶圆表面沉积钴钼合金薄膜，作为阻挡层或扩散层，防止金属离子的扩散，提高芯片的性能和可靠性。
光学领域：在光学镀膜中，钴钼合金靶材可用于制备具有特定光学性能的薄膜，如红外吸收膜、反射膜等，广泛应用于光学镜头、激光器件等光学元件的制造。
电子器件：在电子器件的制造中，如平板显示器、太阳能电池等，钴钼合金靶材可用于制备电极材料或导电薄膜，提高电子器件的导电性和稳定性，改善器件的性能。
刀具涂层：在刀具表面沉积钴钼合金涂层，可以提高刀具的硬度、耐磨性和抗腐蚀性，延长刀具的使用寿命，提高切削加工效率和质量，广泛应用于机械加工、汽车制造等领域。
