高纯3N（99.9%）钴铌靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： CoNb
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
规格 ： 片
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥1000.00/件左右， 价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称：钴铌（CoNd）合金靶材
纯度：3N
标准规格：D50x3mm，D76.2x3mm 或者按规格定制
钴铌合金靶材是一种由钴（Co）和铌（Nb）两种金属组成的合金材料，具有优异的机械性能、耐腐蚀性和高温稳定性。由于其独特的物理和化学特性，钴铌合金靶材广泛应用于薄膜沉积工艺（如溅射镀膜）中，特别是在电子、光学、磁学和能源等领域具有重要应用。
钴铌合金靶材制备方法
熔融铸造法：将合金原料按一定配比放入熔炉中熔炼，然后将合金溶液倒入模具中浇铸成型，再经过机械加工制成靶材。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等。
粉末冶金法：先将合金原料熔炼、浇注成铸锭后粉碎，再将粉末经等静压成形，后高温烧结制成靶材。
钴铌合金靶材主要应用领域
半导体制造：在半导体制造中，可用于制备电极、布线薄膜等。
磁记录领域：在磁记录领域，可用于生产硬盘、磁带等存储介质的磁性薄膜。
光学镀膜：由于其独特的物理和化学性质，钴铌合金靶材也可用于光学镀膜领域。
装饰镀膜：在装饰行业，钴铌合金靶材可用于制备具有特定颜色和光泽的装饰性薄膜。
