高纯3N（99.9%）钴硅合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： CoSi
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥800/Kg左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称： 钴硅合金（CoSi） 靶材
纯度：3N
规格：D50.8x3mm ，D75x100mm 或者规格生产
钴硅合金靶材是一种由钴（Co）和硅（Si）按特定比例组成的合金靶材， 主要用于物理气相沉积（PVD）工艺，如磁控溅射、电子束蒸发等，以制备薄膜材料。其成分比例可根据需求调整，常见的钴硅合金靶材中钴的含量可能在 60% - 90% 左右，不同比例影响薄膜的电学、热学和机械性能。
钴硅合金靶成分特性
主要元素钴（Co）：是合金中的主要成分之一。钴具有良好的磁性、耐腐蚀性和较高的强度。在合金中，钴原子对合金的结构和性能有着重要影响，例如它能提高合金的硬度和耐磨性。
硅（Si）：硅元素的加入可以改善合金的某些性能。硅能提高合金的抗氧化性，并且在一定含量范围内可以细化晶粒，从而增强合金的机械性能。
钴硅合金靶材制备工艺
熔炼法：通常采用真空熔炼或电弧熔炼等方法将钴和硅的原料按一定比例混合熔炼，以获得成分均匀的钴硅合金锭。这种方法可以精确控制合金的成分，但需要较高的温度和真空环境，对设备要求较高。
粉末冶金法：先将钴粉和硅粉按比例混合均匀，然后通过压制、烧结等工艺制成合金靶材。粉末冶金法可以制备复杂形状的靶材，且能较好地控制合金的微观结构，但可能存在孔隙率较高的问题，需要后续处理来提高靶材的致密度。
钴硅合金靶材应用领域
电子工业：用于制造薄膜电阻、电容、半导体器件等。
光学薄膜：用于光学涂层，如反射镜和滤光片。
耐磨涂层：应用于机械零件、工具等，提升耐磨性。
磁记录领域：可用于生产硬盘、磁带等存储介质的磁性薄膜。
