高纯3N（99.9%）钴硅合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： CoZrNb
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥800/Kg左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称： 钴铌锆（CoZrNb）合金靶
纯度：3N
规格：D50.8x3mm ，D75x100mm 或者规格生产
钴铌锆合金靶材是一种用于物理气相沉积（PVD）或溅射镀膜技术的高性能靶材，广泛应用于半导体、光学涂层、耐磨涂层和功能性薄膜制备等领域。
钴铌锆合金靶材性能特点
磁性能优越：溅射得到的纳米晶磁性薄膜，与钴、钴铁和坡莫合金等多晶态磁性薄膜及铜等贵金属材料形成的非磁性隔离层构成的三明治膜层，具有极薄的总体厚度，较大的磁阻效应，稳定的单畴态，优越的翻转特性。
成分均匀性好：通过高真空熔炼和后续加工工艺，能保证合金靶材内部成分均匀一致，使溅射镀膜过程中各元素的溅射速率稳定，从而获得性能稳定的薄膜。
纯度高：一般要求原材料钴、铌、锆的纯度都非常高，通常达到 99.9% 以上，以减少杂质对镀膜性能的影响。
钴铌锆合金靶材制备工艺
将高纯的钴、铌、锆原材料按照一定比例称量后，装入磁悬浮感应熔炼炉的水冷坩埚内，抽真空、充入保护气体洗炉，再次抽真空并充入新的保护气体，加热到一定温度使原材料熔炼，然后升温至全部熔化，冷却至室温得到合金锭，再将合金锭进一步加工成所需的靶材形状和尺寸。
钴铌锆合金靶材应用领域
电子工业：用于制造薄膜电阻、电容、半导体器件等。
光学薄膜：用于光学涂层，如反射镜和滤光片。
耐磨涂层：应用于机械零件、工具等，提升耐磨性。
磁记录领域：可用于生产硬盘、磁带等存储介质的磁性薄膜。
装饰镀膜：在装饰行业，可用于制备具有特定颜色和光泽的装饰性薄膜。
