高纯3N（99.9%） 铝镁合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： AlMg
纯度 ： 3N
形状 ： 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥2800.00/Pc左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
产品名称：铝镁（AlMg 2/1at% ）合金靶材
纯度：3N
尺寸： D76.2X3mm 或者 按图纸定制
铝镁合金靶材是由高纯铝（Al）和镁（Mg）按照一定比例组成的合金靶材，通过真空熔炼工艺制备，广泛应用于光学镀膜、半导体、显示技术和功能涂层等领域。
铝镁合金靶材优点
轻量化：铝镁合金密度低，适合需要减重的应用场景。
高比强度：强度与重量比优于纯铝或纯镁。
耐腐蚀性：镁的加入可提升铝的抗氧化和耐腐蚀性能。
良好导电/导热性：适合电子器件中的导电或散热涂层。
铝镁合金靶性能特点
力学性能：强度高，比强度也高，即强度与密度的比值较大，在保证强度的同时，重量相对较轻，有利于减轻设备或部件的整体重量。
物理性能：具有良好的导热性和导电性，能够满足一些对导热、导电性能有要求的应用场景；弹性模量小，使得材料具有较好的柔韧性和抗变形能力；抗电磁干扰、电磁屏蔽性好，可用于需要屏蔽电磁干扰的电子设备等领域。
化学性能：铝镁合金靶材具有优异的耐腐蚀性，镁的加入进一步提高了铝的耐腐蚀性能，在空气中能够形成致密的氧化膜，阻止内部材料进一步被氧化和腐蚀。
外观特性：色泽鲜艳美观，通过镀膜工艺可以在物体表面形成具有良好装饰效果的膜层。
铝镁合金靶材制备工艺
真空熔炼浇铸：将高纯度的铝和锆原料按一定比例放入真空熔炼炉中，在高温下熔炼使其充分合金化，然后浇铸成型。但该方法在浇铸过程中容易产生缩孔、疏松和宏观偏析等问题。
粉末冶金法：将铝粉和镁粉按照预定比例混合均匀，然后在高压下将混合粉末压制成所需形状的坯体，后在高温下进行烧结，使粉末颗粒之间发生扩散和结合，形成致密的铝镁合金靶材。
熔炼铸造法：把高纯铝和镁放入熔炉中，加热至一定温度使其熔化并充分混合，然后将熔融合金倒入模具中冷却凝固，得到铝镁合金铸锭，再经过后续的加工处理，如锻造、轧制、机械加工等，制成符合要求的靶材。
铝镁合金靶材主要应用领域
半导体工业：用于制备集成电路中的导电层或阻挡层。
光学镀膜：用于制备反射镜、滤光片等，镁的加入可调节膜层的折射率和稳定性。
半导体：作为电极或阻挡层材料，尤其适合对轻量化要求高的器件。
显示技术：用于OLED或LCD的电极镀膜，改善导电性和柔韧性。
防腐涂层：在航空航天或汽车部件表面形成耐腐蚀保护层。
新能源：锂离子电池集流体或固态电池界面层的制备。
