高纯3N（99.9%）铁铝硅合金靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： FeAlSi
纯度 ： 3N
形状 ： 片 平面靶材
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格： ¥400.00/件。价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
名称： 铁铝硅（FeAlSi）合金靶材
纯度：99.9%
规格： 3x3x10mm 或者定制
铁铝硅合金靶材是一种专为磁控溅射等物理气相沉积技术设计的源材料，用于在基板上沉积具有特定功能的薄膜。这种合金溅射靶材，兼具软磁、高阻、耐蚀、耐高温四大核心优势，广泛用于电子、电磁屏蔽、防护涂层等领域。
铁铝硅合金靶材核心性能优势
优异的电磁性能：铁元素提供了基础的强磁性，硅的加入显著提高了材料的电阻率，从而有效减少高频环境下的涡流损耗；铝元素则有助于进一步提升耐腐蚀性并减轻合金重量。
良好的吸波与屏蔽效能：采用该靶材通过磁控溅射等技术制备的薄膜，无需添加任何树脂或橡胶等粘结剂，就能直接获得致密、均匀的吸波涂层，克服了传统压制成型工艺中添加剂影响吸波效果的缺点。
高溅射速率：相比于单独使用铁靶加硅铝靶的共溅射方式，使用三元合金靶材进行溅射通常具有更高的沉积速率，更符合工业化生产的效率需求。
铁铝硅合金靶材制备方法
粉末准备：采用高纯Fe粉、Al粉、Si粉（纯度≥99.9%，粒度常选200–300目），按设定质量比（如Fe约73–74wt%，Al约24–25wt%，Si约1–3wt%）配制。
混料与成型：粉末经球磨、V型混料机长时间混合（如24小时）确保均匀，干燥后装入模具，在真空或保护气氛下单向加压预成型（如110 MPa）。
热压烧结：将压坯置于热压炉，抽高真空（如1×10?3 Pa），边加压边按特定曲线升温（如先低温排杂，再升至1150℃左右保温2小时），使粉末致密化并合金化，后随炉冷却。
后续处理：烧结后的坯料经机加工至终靶材规格。
铁铝硅合金靶材应用领域
磁记录与存储：这是其经典的应用。用于溅射制备高磁导率薄膜，是制造磁头的核心材料之一。在硬盘驱动器等存储设备中，这类薄膜至关重要。
电子与半导体：通过调整成分，可用于制备具有特定电阻率和稳定性的薄膜，应用在 薄膜电阻、电磁屏蔽层 以及半导体器件的某些关键结构中。
总之，铁铝硅（Fe-Al-Si）合金靶材是一种高性能的软磁溅射材料，以高磁导率、高硬度和低磁致伸缩著称，是现代高密度磁存储和高频微电子器件制造的关键材料之一。
