2023-02-07 11:53:03 572人浏览
钒溅射靶材与其源材料共享属性。钒是一种银灰色的金属，密度为6.11g/cm3，熔点为1919±2℃。用于太阳能、平板显示器、电子及半导体等领域，如集成电路、背板金属化、光电子等应用。
2022-12-30 12:02:33 241人浏览
当对金属材料施加热量时，它们的电阻和结构特性会发生变化。因此，通过加热金属的方法来改变其性能，使金属材料应用变得多种多样。
2022-12-28 16:29:20 615人浏览
铜合金是以纯铜为基体加入一种或几种其他元素所构成的合金。铜能与锌、锡、铅、锰、钻、镍、铝、铁、硅等金属形成合金，形成的合金主要分成四类:黄铜是铜锌合金，青铜是铜锡合金，白铜是铜镍合金，无氧铜合金。
2022-12-26 14:43:47 308人浏览
镁溅射靶材具有与金属镁相同的性能，其制备方法采用3次真空热处理，有效避免了镁靶材的氧化现象，得到了晶粒细小均一的镁靶材。镁溅射靶材常用于真空镀膜，实验或研究。
2022-12-21 16:48:01 324人浏览
铜棒因其高性能而广泛应用于许多行业。铜棒的大部分含量是铜，占99.9%，其余为磷。铜棒大高抗拉强度205Mpa，小屈服强度245Mpa，伸长率40%。同时，其低成本使其成为大多数行业的首选。
2022-12-19 17:19:02 205人浏览
铝溅射靶材具有与金属铝相同的性能。铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。
2022-12-12 14:39:48 392人浏览
铁溅射靶材是由高纯铁金属组成的金属固体靶材。铁溅射靶材在真空下蒸发，在半导体、磁性存储介质和燃料电池的生产中作为镀膜涂层。
2022-12-06 16:03:48 455人浏览
铜溅射靶材是真空镀膜行业中优良的溅射材料。通过锻造、轧制和热处理原材料中的高纯铜锭。使铜锭中的晶粒更小，密度更高，进一步变形处理后，加工出高纯度铜溅射材料。
