高纯4N（99.9%）氧化铜陶瓷靶材，价格以当日报价为准，需联系销售报价！！！
元素 ： Cu
纯度 ： 4N
形状 ： 片
包装 ： 真空包装、纸箱、木箱
所有订单均提供正式发票，另外依据客户需要提供正式报价单和合同
市场参考价格：¥500.00/Kg左右，价格仅供参考，如有需要，请咨询报价，以当日报价为准！
颜色：黑色
纯度：3N,4N
规格：D25.4x6.35mm，D54x1.5mm，D101.6x3.175mm
氧化铜靶材（CuO target）是一种在半导体制造过程中使用的溅射靶材。溅射靶材是在物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等半导体制造过程中，用于沉积形成薄膜或涂层的固态材料。这些薄膜或涂层在半导体器件中承担电气、光学或结构功能，是实现高性能半导体产品的基础。
氧化铜靶材由于其特性，可以用于多种应用，包括但不限于：
氧化铜成分材质单
