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产品名称：三氧化二锑（Sb₂O₃）靶材
纯度：99.99%
规格：D70.8*3.175mm 或者按照图纸加工定制
三氧化二锑靶材是一种重要的镀膜材料，熔点为 655°C，沸点为 1550°C。这种材料因其优异的物理和化学性质，在多个领域展现出广泛的应用潜力。如需更多详情，欢迎电话咨询获得更多优惠!
- 三氧化二锑靶材生产工艺
- 粉末制备：通常先通过锑矿石焙烧或金属锑氧化等方法制备出三氧化二锑粉末。例如，以锑矿石为原料，经过选矿、粉碎等预处理后，在高温下进行焙烧，使锑转化为三氧化二锑，然后对产物进行提纯、研磨等处理，得到高纯度的三氧化二锑粉末。
- 靶材成型：将制备好的三氧化二锑粉末通过压制、烧结等工艺制成靶材。压制过程中需要控制压力、温度等参数，以确保靶材的密度和均匀性；烧结则是在高温下使粉末颗粒之间相互结合，提高靶材的强度和致密度。
- 三氧化二锑靶材应用领域
- 半导体制造：在半导体行业中，三氧化二锑靶材可用于制备各种半导体薄膜，如通过磁控溅射等技术在晶圆表面沉积三氧化二锑薄膜，可作为半导体器件的绝缘层、钝化层或其他功能性薄膜，对半导体器件的性能和可靠性起到重要作用。
- 光学领域：由于其特殊的光学性质，可添加到玻璃配方中，提高玻璃的清晰度和光泽度，在玻璃制造中作为澄清剂，去除玻璃熔液中的气泡和杂质。在光学镀膜方面，可用于制备增透膜、反射膜等光学薄膜，应用于光学镜片、镜头、显示器等光学元件上，改善其光学性能。
- 涂料和塑料：三氧化二锑可作为颜料和阻燃剂应用于涂料和塑料行业。在涂料中，它能够提供白色的颜色和良好的遮盖力；在塑料中，作为阻燃剂与其他阻燃剂协同作用，提高塑料的阻燃性能，降低塑料的可燃性。
