陶瓷溅射靶材
高纯度、高密度、成分与结构均匀性好
金属镀膜颗粒
金属蒸发镀膜材料，规格1-10mm；D3*3M；D6*6M或者10*10*10
陶瓷镀膜颗粒
氧化物、氟化物、硫化物等化合物颗粒 规格1-6mm, 1-3mm
2021-11-06 11:07:06 591人浏览
半导体溅射靶材是金属溅射靶材的主要应用领域之一，主要种类包括：铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯溅射靶材。
2021-11-08 17:13:51 490人浏览
陶瓷镀膜颗粒的蒸镀方法有3种：直接蒸镀法、反应蒸镀法和双蒸发源蒸镀法。
2021-11-06 16:32:31 840人浏览
真空蒸镀材料是将加工件放入真空室，并用一定的方法加热，使镀膜材料(简称膜料)蒸发或升华，飞至工件表面凝聚成膜。常用的金属镀膜材料有高纯铝Al、高纯铜Cu、高纯钛Ti等。
2021-11-08 12:08:29 459人浏览
PVD 真空蒸发镀膜材料（单质金属镀膜颗粒）主要用以制备各种具有特定功能的薄膜材料，应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、 光学元器件、 节能玻璃、 LED、工具改性、高档装饰用品等。
