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陶瓷靶材

陶瓷靶材是指用于溅射镀膜工艺的陶瓷材料,陶瓷靶材的种类繁多,其主要分类如下:氧化物类、硅酸盐类、氮化物类、硼化物类、碳化物类、铝基陶瓷靶材、铜基陶瓷靶材、稀土元素陶瓷靶材等。

一氧化硅(SiO)陶瓷靶材

纯度: 3N,4N

¥ 1000.00

二氧化硅(SiO₂)陶瓷靶材

纯度: 4N

¥ 200.00

碳化硅(SiC)陶瓷靶材

纯度: 2N5,3N5,4N

¥ 750.00

氮化硅(Si₃N₄)陶瓷靶材

纯度: 3N,4N

¥ 700.00